2009 年度事後評価書

反応現象のX線ピンポイント構造計測

研究課題

体系的番号	JPMJCR0404
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJCR0404
研究代表者	高田昌樹高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門 I, 主席研究員
研究期間 (年度)	2004 – 2009
研究領域	物質現象の解明と応用に資する新しい計測・分析基盤技術