2013 年度事後評価書

Ge High-k CMOSに向けた固相界面の理解と制御技術の開発

研究課題

体系的番号	JPMJCR0843
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJCR0843
研究代表者	鳥海明東京大学, 大学院工学系研究科, 教授
研究期間 (年度)	2008 – 2013
研究領域	次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究