2019 年度中間評価書

二次元TMDC相補型MISFETsのLSIプロセスによる性能向上と応用

研究課題

体系的番号	JPMJCR16F4
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJCR16F4
研究代表者	若林整東京工業大学, 工学院, 教授
研究期間 (年度)	2016 – 2021
研究領域	二次元機能性原子・分子薄膜の創製と利用に資する基盤技術の創出