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2022 年度 事後評価書

次世代半導体開発におけるプロセス設計の革新

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 ACT-X

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体系的番号 JPMJAX20A7
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJAX20A7

研究代表者

草場 彰  九州大学, 応用力学研究所, 助教

研究期間 (年度) 2020 – 2022
研究領域AI活用で挑む学問の革新と創成

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2024-03-21   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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